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半导体薄膜技术与物理(第三版)

半导体薄膜技术与物理(第三版)

定  价:59 元

丛书名:

  • 作者:叶志镇 著,叶志镇,吕建国,吕斌,张银珠,戴兴良 编
  • 出版时间:2021/6/1
  • ISBN:9787308209489
  • 出 版 社:浙江大学出版社
  • 中图法分类:TN304.055 
  • 页码:254
  • 纸张:
  • 版次:3
  • 开本:16开
  • 字数:(单位:千字)
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本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础,全书共分十一章。第一章概述了真空技术,第二至第八章分别介绍了蒸镀、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术,第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论,第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术,第十一章介绍了溶液法技术及发光器件的制备。
本书文字叙述上力求做到深入浅出,内容上深度和宽度相结合,理论和实践相结合,以半导体薄膜技术为重点,结合半导体材料和器件的性能介绍,同时还介绍了半导体薄膜技术与物理领域的新概念、新进展、新成果和新技术。本书具有内容翔实、概念清楚、图文并茂的特点。
本书读者对象广泛,可作为高等院校材料、物理、电子、化学等学科的研究生或高年级本科生的半导体薄膜技术课程的教材,也可作为从事半导体材料、薄膜材料、光电器件等领域的科研人员、工程技术人员的参考书。
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