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真空镀膜原理与技术

真空镀膜原理与技术

定  价:38 元

丛书名:普通高等教育“十三五”规划教材

  

  • 作者:方应翠主编
  • 出版时间:2014/2/1
  • ISBN:9787030398987
  • 出 版 社:科学出版社
适用读者:相关专业的本科生、研究生及工程技术人员
  • 中图法分类:TN305.8 
  • 页码:213
  • 纸张:胶版纸
  • 版次:1
  • 开本:16K
  • 字数:282(单位:千字)
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    《真空镀膜原理与技术》阐述了真 空镀膜的应用,真空镀膜过程中薄膜在基体表面生长 过 程;探讨了薄膜生长的影响因素;具体地介绍了真空 镀膜的各种方法,包 括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气 相沉积的原理、特 点、装置及应用技术等。力求避开烦琐的数学公式, 尽量用简单的语言阐 述物理过程。通俗易懂、简单易学。

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